KrF光刻胶和arf光刻胶是什么 krf光刻胶和arf光刻胶区别

本文章由注册用户 知识杂谈 上传提供 评论 发布 纠错/删除 版权声明 0
摘要:光刻胶的种类有很多,按照光源波长的从大到小,可分为紫外宽谱、g线、i线、KrF、ArF、EUV等主要品类。KrF光刻胶和arf光刻胶是什么?krf光刻胶和arf光刻胶有什么区别?krf光刻胶和arf光刻胶最大区别是光刻胶的光源波长不同,krf波长为248nm,arf波长为193nm。

一、KrF光刻胶是什么

光刻胶根据不同的曝光光源分为不同的类型,曝光光源从宽谱紫外线发展到I线(365nm)、KrF线(248nm)、ArF线(193nm)以及EUV(13.5nm)光源,而不同的光源要求使用不同的光刻胶。KrF光刻胶就是运用KrF(248nm)曝光光源时所需要的光刻胶。KrF光刻胶主要应用于0.13m以上线宽,包含离子注入层,抗刻蚀层等多种工艺中。

二、arf光刻胶是什么

ArF光刻胶,是半导体光刻胶的一种,属于高端光刻胶产品,用来制造12英寸大硅片(硅晶圆)。在光刻胶产品中,半导体光刻胶技术壁垒最高;在半导体光刻胶产品中,ArF光刻胶是技术含量最高的产品之一。ArF光刻胶是第四代光刻胶,行业进入技术壁垒高,全球量产企业数量少。

三、krf光刻胶和arf光刻胶区别

krF光刻胶与ArF光刻胶都主要用于半导体领域,二者最大区别是光刻胶的光源波长不同,其中krf波长为248nm,arf波长为193nm,arf光刻胶的分辨率更好,技术含量更高。arf和krf都属于深紫外光范畴,也都是duv光刻机应用光源,但是光源技术上相差一代。另外,由于光源波长不同,krf光刻胶和arf光刻胶也不能通用。

网站提醒和声明
本站为注册用户提供信息存储空间服务,非“MAIGOO编辑”、“MAIGOO榜单研究员”、“MAIGOO文章编辑员”上传提供的文章/文字均是注册用户自主发布上传,不代表本站观点,版权归原作者所有,如有侵权、虚假信息、错误信息或任何问题,请及时联系我们,我们将在第一时间删除或更正。 申请删除>> 纠错>> 投诉侵权>> 网页上相关信息的知识产权归网站方所有(包括但不限于文字、图片、图表、著作权、商标权、为用户提供的商业信息等),非经许可不得抄袭或使用。
提交说明: 快速提交发布>> 查看提交帮助>> 注册登录>>
相关推荐
集成电路和软件企业 集成电路和软件上市公司一览 国内上市软件公司有哪些?
长期以来,集成电路领域和基础软件领域研发是国内制造核心技术的稀缺资源;放眼全球,集成电路设计和基础软件开发仍以美国为主导,中国大陆是重要参与者,尤其是在核心芯片设计领域,全球对美国的依赖程度较高;为支持集成电路设计和软件产业发展,国内相关部门出台了多项激励措施,同时受益于国内下游终端需求巨大,国内的集成电路设计企业不止在智能手机领域上表现突出,且其它细分领域市场也有出色公司的涌现。
笔记本cpu温度多少正常 笔记本电脑cpu温度过高怎么办
每到夏天,笔记本使用时间一长就容易出现CPU温度过高的现象。我们知道CPU温度过高不仅会严重影响笔记本电脑的性能,还会影响其它硬件的寿命。那么除了环境温度过高外,还有什么原因导致呢?一般来说,这还和cpu风扇质量与主机环境、运行大型游戏或高清电影以及CPU超频有关。如果CPU温度没超过50度,那么说明还可以接受,但是一旦温度过高,笔记本就面临十分严重的风险,这时候就需要我们采取一定的措施进行降温。下面就一起来看下相关知识吧。
芯片 笔记本
5339 101
KrF光刻胶和arf光刻胶是什么 krf光刻胶和arf光刻胶区别
光刻胶的种类有很多,按照光源波长的从大到小,可分为紫外宽谱、g线、i线、KrF、ArF、EUV等主要品类。KrF光刻胶和arf光刻胶是什么?krf光刻胶和arf光刻胶有什么区别?krf光刻胶和arf光刻胶最大区别是光刻胶的光源波长不同,krf波长为248nm,arf波长为193nm。
光刻胶 芯片
6499 2
euv光刻胶是什么 euv光刻胶的缺点
euv光刻胶是什么?euv光刻胶也就是极紫外光刻胶,其波长为13.5纳米,几乎所有的光学材料对13.5nm波长的极紫外光都有很强的吸收。EUV光刻胶用于晶圆厂的芯片生产,实现精确图案化,但euv光刻胶会出现随机效应,影响芯片的性能,甚至导致设备出现故障。
光刻胶的优缺点 光刻胶的危害及防护
光刻胶是一种感光材料,可以通过光化学反应,经曝光、显影等光刻工序将掩膜版图形转移至衬底上,形成与掩膜版完全对应的几何图形。光刻胶作为芯片制造中的一种重要材料,具有精度高、适用范围广、加工速度快的优点,但也具有成本较高、对环境有一定污染、对人体有一定危害的缺点。下面来了解下光刻胶的危害及防护。
光刻胶 芯片
2447 4