KrF光刻胶和arf光刻胶是什么 krf光刻胶和arf光刻胶区别

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摘要:光刻胶的种类有很多,按照光源波长的从大到小,可分为紫外宽谱、g线、i线、KrF、ArF、EUV等主要品类。KrF光刻胶和arf光刻胶是什么?krf光刻胶和arf光刻胶有什么区别?krf光刻胶和arf光刻胶最大区别是光刻胶的光源波长不同,krf波长为248nm,arf波长为193nm。

一、KrF光刻胶是什么

光刻胶根据不同的曝光光源分为不同的类型,曝光光源从宽谱紫外线发展到I线(365nm)、KrF线(248nm)、ArF线(193nm)以及EUV(13.5nm)光源,而不同的光源要求使用不同的光刻胶。KrF光刻胶就是运用KrF(248nm)曝光光源时所需要的光刻胶。KrF光刻胶主要应用于0.13m以上线宽,包含离子注入层,抗刻蚀层等多种工艺中。

二、arf光刻胶是什么

ArF光刻胶,是半导体光刻胶的一种,属于高端光刻胶产品,用来制造12英寸大硅片(硅晶圆)。在光刻胶产品中,半导体光刻胶技术壁垒最高;在半导体光刻胶产品中,ArF光刻胶是技术含量最高的产品之一。ArF光刻胶是第四代光刻胶,行业进入技术壁垒高,全球量产企业数量少。

三、krf光刻胶和arf光刻胶区别

krF光刻胶与ArF光刻胶都主要用于半导体领域,二者最大区别是光刻胶的光源波长不同,其中krf波长为248nm,arf波长为193nm,arf光刻胶的分辨率更好,技术含量更高。arf和krf都属于深紫外光范畴,也都是duv光刻机应用光源,但是光源技术上相差一代。另外,由于光源波长不同,krf光刻胶和arf光刻胶也不能通用。

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