靶材是什么材料？靶材是制备薄膜的主要材料之一，是一种具有高附加价值的特种电子材料，主要使用在微电子，显示器，存储器以及光学镀膜等产业上，用以溅射用于尖端技术的各种薄膜材料。下面来了解下靶材的用途知识。

靶材是高速荷能粒子轰击的目标材料，是制造芯片过程中不可缺少的材料。根据不同材质靶材可划分为金属靶材，陶瓷靶材，合金靶材。根据不同应用方向靶材可划分为半导体关联靶材、磁记录靶材、光记录靶材。下面来了解下靶材的性能和指标。

溅射靶材是什么？溅射靶材是目标材料，是一种用溅射沉积或薄膜沉积技术制造薄膜的材料。溅射靶材可用于微电子领域、显示器、存储用及高温耐蚀、耐磨材料、装饰用品等行业。溅射靶材工作原理是什么？下面一起来了解下。

ITO靶材是什么材料？ITO靶材是溅射靶材中的一种，全称为氧化铟锡靶材，是氧化铟和氧化锡的混合物。在所有其他透明导电氧化物中，氧化铟锡因其卓越的导电性、光学透明度和高稳定性而被广泛选择。在光电子行业，它主要用于覆盖半导体传感器布线，并制造各种光电设备和组件，如液晶显示器、有机发光二极管、等离子显示器和触摸屏。

靶材就是用于物理镀膜中的溅镀，靶材种类比较多，有金属类、合金类、氧化物类等等。金属靶材应用主要包括平板显示器、半导体、太阳能电池、记录媒体等领域。常见金属靶材的种类有镁Mg、锰Mn、铁Fe、钴CO、镍Ni、铜Cu、锌Zn、铅Pd、锡Sn、铝AL等。

ITO靶材是一种贵金属材料，是在高温气氛烧结形成的黑灰色陶瓷半导体。ITO靶材主要有四种成型方法，分别是真空热压法、热等静压法、常压烧结法、冷等静压法。下面就来了解下ITO溅射靶材的制作方法以及ITO溅射靶材生产难点。

靶材就是真空电镀材料炉里的靶，是电镀材料的一种，主要应用于半导体器件、存储用的硬盘、平面显示器等的布线和制备薄膜用的贵金属溅射靶材材料。靶材有金属类、合金类、氧化物类等等，那么溅射靶材是否属于稀缺资源？贵金属靶材可以回收再利用吗？下面来了解下。

多弧离子镀技术是离子镀技术的一种改进方法，是采用电弧放电的方法，在固体的阴极靶材上直接蒸发金属，蒸发物是从阴极弧光辉点放出的阴极物质的离子，从而在基材表面沉积成为薄膜的方法。下面来了解下多弧离子反应镀膜设备可镀色彩，各种靶材对应的PVD镀膜颜色。

靶材在使用过程中，其表面逐渐会产生一种黑色颗粒状物质，这就是靶材中毒。靶材中毒的主要原因是介质的合成速度大于溅射产率，导致导体靶材失去导电能力。如果要消除目标中毒，应使用中频电源或射频电源代替直流电源。减少反应气体的吸入量，增加溅射功率。